噴砂處理：鈦鑄件的噴砂處理一般選用白剛玉粗噴較好，噴砂處理的壓力要比非貴金屬者較小，一般控制在0.45Mpa以下。因為，噴射壓力過大時，砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生激烈火花，溫度升高可與鈦表面發(fā)生反應(yīng),形成二次污染，影響表面質(zhì)量。時間為15~30秒，僅去除鑄件表面的粘砂、表面燒結(jié)層和部分和陽極氧化層即可。其余的表面反應(yīng)層結(jié)構(gòu)宜采用化學(xué)酸洗的方法快速去除。酸洗：酸洗能夠快速完全去除表面反應(yīng)層，而表面不會產(chǎn)生其他元素的污染。HF—HCl系和HF—HNO3系酸洗液都可用于鈦的酸洗，但HF—HCl系酸洗液吸氫量較大，而HF—HNO3系酸洗液吸氫量小，可控制HNO3的濃度減少吸氫，并可對表面進行光亮處理，一般HF的濃度在3%~5%左右，HNO3的濃度在15%~30%左右為宜。

　　化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的陽極氧化還原反應(yīng)而達到整平拋光的目的。其優(yōu)點是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光處理面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān)，凡與拋光液接觸的部位均被拋光，不須特殊復(fù)雜設(shè)備，操作簡便，較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學(xué)拋光處理的工藝參數(shù)較難控制，要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光處理效果。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制，HF是還原劑，能溶解鈦金屬，起到整平作用，濃度<10%,HNO3起陽極氧化作用，防止鈦的溶解過度和吸氫，

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