拋光是金屬?gòu)耐固幰频桨继帲纬蔁o(wú)定形層，或很細(xì)的金屬晶體層；也有研究者用電子顯微鏡的研究證實(shí)，拋光表面的外層被粉碎成不規(guī)則的，很細(xì)的結(jié)晶狀態(tài)，等等?；瘜W(xué)拋光和電化學(xué)拋光的反應(yīng)機(jī)理的簡(jiǎn)單說(shuō)法是：對(duì)鋁或鋁合金制件的微觀凹凸不平的表面組織(包括金屬鋁成分)進(jìn)行選擇性的溶解，來(lái)有效地整平和拋光制件表面，從而提高其表面光潔度。

　　對(duì)鋁及其合金來(lái)說(shuō)，機(jī)械拋光雖能獲得平整度，卻不能獲得類似化學(xué)或電化學(xué)拋光的光亮度。為此機(jī)械拋光后直接進(jìn)行陽(yáng)極氧化所獲的膜層是無(wú)金屬光澤的，甚至比不上未經(jīng)機(jī)械拋光部位，猶如搪瓷、油漆層。 機(jī)械拋光雖然不能替代化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光，但化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光之前先經(jīng)機(jī)械拋光還是十分必要的，材料表面的劃痕等損傷部位如未經(jīng)機(jī)械拋光，在化學(xué)或電化學(xué)拋光工序中是無(wú)法除去的。

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